ГК «Элемент» разработала первые в России кластерные системы для производства микросхем по технологии 65 нм. Оборудование поддерживает обработку кремниевых пластин диаметром 200 и 300 мм.
Новые установки предназначены для процессов плазмохимического осаждения и травления. По заявлению разработчиков, системы совместимы как с действующими, так и с будущими производственными линиями.
Созданием установок занимались предприятия НИИМЭ и НИИТМ, входящие в группу компаний. В НИИМЭ назвали разработку «важным практическим результатом» для отечественной микроэлектроники.
Источник новости zelao.ru и обложки gkelement.ru