Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) завершил разработку первого российского фотолитографа — ключевого оборудования для производства микросхем. Установка, обеспечивающая разрешение в 350 нанометров, уже прошла приемку государственной комиссией с участием ведущих производителей микроэлектроники.
Новая установка, созданная совместно с белорусским ОАО «Планар», демонстрирует существенный прогресс в характеристиках. Рабочее поле увеличилось с 3.2×3.2 мм до 22×22 мм, а максимальный диаметр обрабатываемых пластин вырос с 150 до 200 мм.
Важным технологическим прорывом стала замена традиционной ртутной лампы на твердотельный лазер, что обеспечивает более высокую мощность, энергоэффективность и долговечность при более узком спектре излучения.
ЗНТЦ не останавливается на достигнутом — уже ведется разработка более совершенной установки с разрешением 130 нм, завершение которой запланировано на 2026 год.
Источник новости и обложки: www.zntc.ru